蒸着

ここでは、真空が繰りなす原理原則について、まとめています。
蒸着・スパッタリング・マグネトロンスパッタリングです。ちょっと言葉は難しくなりますが、できるだけ、分かりやすくなるように努めます。
まず、共通の言葉として覚えて欲しいのが、真空槽です。チャンバーなどの容器で生成される真空環境のことを、真空槽といいます。

蒸着とは

容器に入れたAl(アルミ)等の材料を加熱して蒸発させ、上部の基板等にアルミを付着させ薄膜を形成する技術のことです。
またここで新しい言葉が出ました。薄膜です。薄膜を英語で書くと、Thinfilm です。薄いフィルムです。基板上に蒸着やスパッタリングで作られる原子の層です。

次は蒸着の環境についてです。
通常の環境、つまり大気中で蒸着した場合、蒸発したアルミ原子が大気中の気体分子に衝突してしまい、なかなか上部にある基板までアルミが到着(付着)しません。アルミは、下に落ちてしまうか、横方向に付くくらいです。

図

そこで真空の登場です。真空槽で蒸着した場合、真空槽では気体分子が少ないので、気体分子に衝突するリスクが小さくなります。なので、アルミの進む距離が長くなり、上部にある基板により多くのアルミが到着(付着)することになります。

図

やかんのふたの水滴も!!

(※厳密には、水蒸気が付着して水の膜ができるまでが蒸着の原理と同じです。)

化学でいう雰囲気は、普段の雰囲気とちがう!?アルゴン雰囲気って言葉知っていますか?ここで用いられる雰囲気は、楽しそうとか御祝いするなどというムードとかではなく、その物質のみで満たすという意味です。つまり、アルゴン雰囲気であれば、アルゴンガスだけで満たした状態です。決して、アルゴンなムードじゃないです。と言うかどんなムードか分かんないですよね?

QAM,研究装置,実験装置,真空装置